Machine de lithographie par nano-impression de Canon
Machine de lithographie par nano-impression de Canon

Canon offre une alternative économique à la lithographie extrême ultraviolet d’ASML

Fujio Mitarai, CEO de Canon, a indiqué à Bloomberg que si le prix de sa nouvelle machine de production de semi-conducteurs, une alternative aux machines les plus avancées de lithographie extrême ultraviolet (EUV) d’ASML, n’était pas encore fixé, il aurait un chiffre en moins que celui de son concurrent.

Pour la première fois, une alternative bien meilleur marché s’offrirait donc aux fondeurs de puces avancées, entre 2 et 5 nanomètres.

Toute chose égale par ailleurs, plus la gravure d’une puce est fine, meilleure sont les performances de cette puce, moins elle consomme d’électricité, et plus elle peut contenir de transistors.

Actuellement, c’est le fondeur TSMC, avec des machines d’ASML, qui domine ce marché.

Jusqu’ici, seules les machines d’ASML permettaient de produire de telles puces. Elles coûtent non seulement plusieurs centaines de millions d’euros, mais occupent la même superficie qu’un bus, et leurs ventes internationales sont restreintes par les Américains, alors qu’ASML est une entreprise européenne. Il lui est ainsi interdit de vendre ces machines en Chine.

La vente des machines de technologie Canon, la lithographie par nano-impression, pourrait également être restreinte, si elle exploite des brevets américains. La lithographie par nano-impression, n’est en tout cas pas sur la liste des exportations restreintes du ministère de l’Économie du Japon.

La lithographie par nano-impression a été développée en plus de dix ans par Canon, avec le concours de Dai Nippon Printing et de Kioxia Holdings. Alors que la gravure EUV fonctionne en reflétant la lumière, la technologie de Canon estampille des schémas de circuit directement sur des plaquettes pour créer des puces à des géométries équivalentes aux nœuds les plus avancés, bien qu’à un rythme beaucoup plus lent.

Les machines de Canon nécessiteraient dix fois moins d’énergie que les machines de son concurrent.

Elles semblent idéales pour la fabrication de petits lots de puces avancées.

Mitarai conclut :

« Je ne m’attends pas à ce que la technologie de la lithographie par nano-impression supplante les procédés EUV, mais je suis convaincu qu’elle créera de nouvelles opportunités et une nouvelle demande. Nous recevons déjà de nombreuses demandes de clients. »

La commercialisation des machines de lithographie par nano-impression de Canon a débuté en octobre.

Nikon est le troisième grand fournisseur de machines de lithographie pour la fabrication de puces.